一种冷光源曝光机
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摘要

一种冷光源曝光机,包括支架、载片台、曝光机构和竖向调节机构,载片台水平固定于支架的下端,竖向调节机构用于调节曝光机构的高度,曝光机构包括紫外灯源、多面镜组、反光镜组、机械快门和罩壳,多面镜组和反光镜组均置于罩壳内,多面镜组包括若干呈环形均匀紧密布置的反光片,紫外灯源置于多面镜组的中心点位置处,反光镜组包括第一反光镜和第二反光镜,第一反光镜与第二反光镜平行对峙布置、并与水平方向呈夹角45°布置,第一反光镜置于紫外灯源正下方,机械快门横置于第一反光镜和第二反光镜之间,第二反光镜正下方还设有准直镜。其避免了曝光机载片台上热面积累积,提高了曝光效率,大大降低了紫外光的能量衰减,扩大了曝光面积。

基本信息
专利标题 :
一种冷光源曝光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022484676.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-30
授权号 :
CN213457648U
授权日 :
2021-06-15
发明人 :
李健儿冯永胡仲波敬春云宋勇王一超李慕轩
申请人 :
四川上特科技有限公司
申请人地址 :
四川省遂宁市射洪县河东大道88号
代理机构 :
成都睿道专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王小艳
优先权 :
CN202022484676.6
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-06-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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