扫描型曝光用光源单元
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
提供一种小型轻量、高可靠性的扫描型曝光用光源单元。本发明的扫描型曝光用光源单元，在对于基板上的曝光面平行地相对移动的同时对曝光面进行光照射。光源单元，具备多个光源。多个光源，沿横切相对移动的方向而排列。每一个的光源，包括发光单元(1)。发光单元(1)，至少具有一个半导体面发光元件(5)。使多个半导体面发光元件(5)集合为六角形，如果使发出的光朝光学六角柱(6)入射，则在曝光面上可获得照度均匀的六角形的照射区域。
基本信息
专利标题 ：
扫描型曝光用光源单元
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1782885A
申请号 ：
CN200510128663.2
公开（公告）日 ：
2006-06-07
申请日 ：
2005-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
三宅荣一
申请人 ：
三荣技研股份有限公司
申请人地址 ：
日本国兵库县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
李香兰
优先权 ：
CN200510128663.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-02-10 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-11-21 ：
实质审查的生效
2006-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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