一种基于扫描拼接的大尺寸曝光光源
授权
摘要
本实用新型公开了一种基于扫描拼接的大尺寸曝光光源，包括曝光光源组合，所述曝光光源组合的右侧设有倾斜45度角放置的第一反射镜，所述曝光光源组合和第一反射镜的上方设置有扫描平台，所述扫描平台的上表面设有与第一反射镜上下对应的掩膜板，所述掩膜板的正上方设有倾斜135度角放置的第二反射镜，所述第二反射镜的左侧设置有投影镜头组合，所述投影镜头组合的左侧设置有倾斜45度角放置的第三反射镜，通过两排多个曝光光源组合在X和Y方向上进行拼接扫描曝光，可以实现曝光图形间的无接缝拼接，多个光源组合以扫描的方式实现大面积的曝光视场，既降低了系统的成本，还可以提高曝光的生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种基于扫描拼接的大尺寸曝光光源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020865009.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-21
授权号 ：
CN211979422U
授权日 ：
2020-11-20
发明人 ：
张博李康
申请人 ：
河南百合特种光学研究院有限公司
申请人地址 ：
河南省新乡市红旗区新东大道166号
代理机构 ：
新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨杰
优先权 ：
CN202020865009.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-11-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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