一种动态校准的扫描式UV曝光光源系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种动态校准的扫描式UV曝光光源系统，包括箱体、光源装置及散热结构，箱体包括底面、侧面及发光面，侧面设于底面上，发光面设于侧面上，且发光面上设有多个开孔，多个开孔按照设定规则均匀排列；光源装置包括多个实时反馈的动态扫描式平行光源，该多个平行光源均设置在箱体内部；该多个平行光源与多个开孔的数量一致，并且每个平行光源对向于每个开孔；散热结构设置在箱体的侧面。其中，本申请的光源为采用实时反馈的动态扫描式平行光源，且该平行光源设有多个，由此，不但减少了单个光源的数量，减少了校正的时间，还可提高整体的转配效率；同时，配置了散热结构，使产品在工作中能快速散发热量。
基本信息
专利标题 ：
一种动态校准的扫描式UV曝光光源系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921293415.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-12
授权号 ：
CN210573185U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
涂刚峰
申请人 ：
广州嘉禾盛信息科技有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市高新技术产业开发区东明二路5号A座415房
代理机构 ：
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陶志国
优先权 ：
CN201921293415.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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