PCB阻焊曝光设备及其光源单元
实质审查的生效
摘要

本申请涉及一种PCB阻焊曝光设备及其光源单元,包括光输出装置、聚焦装置与照明装置,光输出装置发出的光依次经过聚焦装置与照明装置后,通过PCB阻焊曝光设备的投影单元照射至待曝光基板上;光输出装置用于输出初始光信号;聚焦装置用于接收初始光信号并进行汇聚准直处理,输出汇聚后的光信号;照明装置用于接收汇聚后的光信号并进行匀光整形处理,输出匀光整形后的光信号;其中,匀光整形后的光信号用于完成待曝光基板的PCB阻焊层曝光。原本发散的光极大程度的变为可利用的能量,得到光斑面积符合投影单元工作范围的光信号照射至待曝光基板上,促使其阻焊层完成聚合固化,使得所需的曝光时长与功耗大大降低,减少了光照与能耗上的资源浪费。

基本信息
专利标题 :
PCB阻焊曝光设备及其光源单元
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114527626A
申请号 :
CN202210202432.5
公开(公告)日 :
2022-05-24
申请日 :
2022-03-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王阔林垂真尚小兵
申请人 :
杭州新诺微电子有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市萧山区南阳街道岩峰村(自然村)772号-28
代理机构 :
华进联合专利商标代理有限公司
代理人 :
潘宏洲
优先权 :
CN202210202432.5
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  H05K3/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20220302
2022-05-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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