一种用于防焊曝光的紫外LED光源
授权
摘要
本实用新型提供一种用于防焊曝光的紫外LED光源，包括支撑架，所述支撑架上安装有LED光源组件，所述LED光源组件的发光一侧安装有聚光透镜，所述聚光透镜固定在所述支撑架上，所述LED光源组件与支撑架之间通过滑动机构滑动连接，所述支撑架与所述LED光源组件之间设置有用于调节聚光透镜滑动的调节机构。本实用新型中采用聚光透镜对紫外LED光源进行聚光处理，以达到高能量的光，用于精密FPC防焊曝光使用。
基本信息
专利标题 ：
一种用于防焊曝光的紫外LED光源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022298032.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-15
授权号 ：
CN213069475U
授权日 ：
2021-04-27
发明人 ：
兰卫国
申请人 ：
深圳优卫乐得科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区西乡街道三围航空路30号A栋228
代理机构 ：
深圳市中兴达专利代理有限公司
代理人 ：
林丽明
优先权 ：
CN202022298032.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-04-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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