图像曝光设备和微透镜阵列单元
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种能够防止曝光的图像质量下降的图像曝光设备。该设备包括空间光学调制装置(50)，该空间光学调制装置(50)包括大量的两维排列的像素区；光源(66)；以及图像聚焦光学系统(51)，该图像聚焦光学系统(51)用于将由空间光学调制装置(50)调制的光(B)所表现的图像聚焦在感光材料上，该图像聚焦光学系统(51)包括图像聚焦透镜(52、54)和微透镜阵列(55)，所述微透镜阵列布置为多个微透镜定位在由图像聚焦透镜(52、54)聚焦的每一个像素区的图像位置处。微透镜阵列(55)被容纳在具有两个透明部分(82、83)的壳体(80)中，该透明部分(82、83)分别用于透射将要通过微透镜阵阵列(55)的光和透射已经通过微透镜阵列(55)的光，用以防止灰尘粘附于该微透镜阵列。
基本信息
专利标题 ：
图像曝光设备和微透镜阵列单元
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101103312A
申请号 ：
CN200680002028.2
公开（公告）日 ：
2008-01-09
申请日 ：
2006-01-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
石川弘美
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张成新
优先权 ：
CN200680002028.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027 H05K3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-12-02 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-02-27 ：
实质审查的生效
2008-01-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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