图像曝光装置

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

一种图像曝光装置，在装置中感光材料由空间光调制器调制的光曝光，其能获得高的光利用效率和消光比。在图像曝光装置中，包括具有多个反射像素部的两维设置的空间光调制器(50)，如DMD，每一个像素部调制照射在其上的光；将光(B)照射到空间光调制器(50)上的光源(66)；以及将由经由空间光调制器(50)透射的光(B)所代表的图像聚焦到感光材料(150)上，每一个像素部(例如，DMD的微镜)制成类似凹面镜或凸面镜的形状，会聚用于图像曝光的光(B)。

基本信息

专利标题：

图像曝光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101120285A

申请号：

CN200680004549.1

公开（公告）日：

2008-02-06

申请日：

2006-02-08

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

石井秀一木村宏一角克人石川弘美大森利彦

申请人：

富士胶片株式会社

申请人地址：

日本国东京都

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

张成新

优先权：

CN200680004549.1

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G02B26/08