图像曝光装置
授权
摘要
本发明提供一种能够记录良好的图像并且能够使装置小型化的图像曝光装置。本发明的图像曝光装置(10)，具备：具有像素(13)的图像显示装置(12)；感光性记录介质支撑部(21)，使记录图像显示装置(12)的图像的感光性记录介质(14)的曝光面(14A)与图像显示装置(12)对置而支撑感光性记录介质(14)；百叶窗式薄膜(16)，设置于图像显示装置(12)与感光性记录介质支撑部(21)之间，在第1方向上交替配置有透射光的透光部(102)及遮住光的遮光部(104)，并且在第2方向上交替配置有透射光的透光部(102)及遮住光的遮光部(104)；及保护层(17)，设置于百叶窗式薄膜(16)的感光性记录介质支撑部(21)侧。
基本信息
专利标题 ：
图像曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111295622A
申请号 ：
CN201880070845.4
公开（公告）日 ：
2020-06-16
申请日 ：
2018-10-03
授权号 ：
CN111295622B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
宇佐美由久园田慎一郎吉泽宏俊
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
高颖
优先权 ：
CN201880070845.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B5/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-07-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20181003
申请日 : 20181003
2020-06-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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