图像曝光装置及方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种图像曝光装置，其能够避免由于光线行进方向上的波动而导致所曝光的图像分辨率变差，所述光线聚焦空间光调制器件的像素部分的像素图像。该装置包括空间光调制器件(50)，例如具有被二维地设置的多个像素部分的DMD；光源(66)；和图像聚焦光系统(52、54)。它另外包括孔径阵列(59)，其被设置在通过图像聚焦光系统(52、54)被聚焦的图像位置，以使像素部分的各个像素图像被定位在各个孔径(59a)的平面处。被定位在孔径阵列(59)的孔径平面处的像素图像通过微透镜阵列(55)被聚焦为图像，其然后由光系统(57、58)被投影在光敏材料(150)上。
基本信息
专利标题 ：
图像曝光装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101080675A
申请号 ：
CN200580041938.7
公开（公告）日 ：
2007-11-28
申请日 ：
2005-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
石川弘美
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张成新
优先权 ：
CN200580041938.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027 G03B27/32
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2008-08-27 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-11-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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