光刻机参数状态检测方法、装置、设备及其存储介质
授权
摘要

本申请公开了一种光刻机参数状态检测方法、装置、设备及其存储介质,该方法包括获取工作时的光刻机的各种工作参数;将各种工作参数转换成对应的工作图形界面并量化;对比工作图形界面与对应的正常图形界面的偏差,若偏差在预设范围内,则工作时的光刻机指标合格;若偏差超过预设范围,则工作时的光刻机出现故障。本申请提供的上述技术方案,通过将工作时的光刻机的各种工作参数转换成对应的工作图形界面,根据工作图形界面来判断光刻机的各个参数是否出现异常,更加直观的对比出设备各项参数状态的变化,解决了传统方式依靠工程师停机检查及设备仪器检测时效性低的问题,同时避免了因为设备参数变化跟踪不及时导致产品的批量报废。

基本信息
专利标题 :
光刻机参数状态检测方法、装置、设备及其存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113703289A
申请号 :
CN202111046088.7
公开(公告)日 :
2021-11-26
申请日 :
2021-09-07
授权号 :
CN113703289B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
叶小龙侯广杰谢超王栋
申请人 :
深圳市龙图光电有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼
代理机构 :
深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
欧志明
优先权 :
CN202111046088.7
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 :
授权
2021-12-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20210907
2021-11-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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