具有二维对准测量装置的光刻设备和二维对准测量方法
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摘要
光刻设备具有用来移动带有标记(M3)的对象的执行器，所述标记具有多个排列成行和列的结构(19)。对准装置包括光源、光学系统和检测器。光源和光学系统产生在与列平行的第一方向延伸的第一斑点部分(24x)和在与行平行的第二方向延伸的第二斑点部分(24y)。光学系统把对准辐射束射向标记(M3)，接收从标记(M3)返回的对准辐射，并把对准辐射传送给检测器。检测器把对准信号传送给处理器，处理器根据对准信号计算标记(M3)的二维位置。
基本信息
专利标题 ：
具有二维对准测量装置的光刻设备和二维对准测量方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1794089A
申请号 ：
CN200510003559.0
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2005-12-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
F·B·M·范比森
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
杨凯
优先权 ：
CN200510003559.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/00 H01L21/027 G06F17/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-04-07 ：
授权
2008-02-13 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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