一种光刻机用上版夹具
授权
摘要

本实用新型提供了一种光刻机用上版夹具,属于光刻机技术领域。该光刻机用上版夹具包括曝光机构、定位机构和真空机构。所述曝光机构包括第一箱体,所述第一箱体内表面开设有插孔,所述插孔设置为两个,所述定位机构包括支板、液压缸、第二箱体、驱动组件和滑动组件,所述驱动组件包括电机、第一圆锥齿轮、第二圆锥齿轮和螺纹杆。本实用新型通过液压缸、第二箱体、真空吸盘、电机、第一圆锥齿轮、第二圆锥齿轮、螺纹杆、滑块、真空泵、总进气管和分进气管的作用,从而达到了便于定位和夹持不同大小铬版的目的,可根据不同大小的铬版调整吸盘的位置,便于对铬版进行定位的同时,可夹持不同大小的铬版,省时省力,提高生产率。

基本信息
专利标题 :
一种光刻机用上版夹具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022252075.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-12
授权号 :
CN212873191U
授权日 :
2021-04-02
发明人 :
杨光宇
申请人 :
锐捷芯盛(天津)电子科技有限公司
申请人地址 :
天津市滨海新区滨海高新区华苑产业区海泰华科三路1号6号楼-912
代理机构 :
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 :
周庆路
优先权 :
CN202022252075.2
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-04-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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