一种光刻机用上版夹具
授权
摘要
本实用新型提供一种光刻机用上版夹具。所述一种光刻机用上版夹具包括定位器和控制系统，定位器一侧与曝光平台间隙配合，所述曝光平台一侧通过螺钉与不锈钢支架固定连接，所述不锈钢支架内表面通过螺钉与抽气装置固定连接，所述不锈钢支架一侧通过螺钉与处理器固定连接，所述处理器一端通过螺钉与信号发射器固定连接。本实用新型提供的一种光刻机用上版夹具通过压强差形成一个压力作用于铬版，使得铬版与夹具连接强度增加，并且真空吸气槽是由橡胶制成，减缓了摩擦，并且通过设计抵顶块，半圆形的设计能够减少磨损，解决了现有的夹具对铬版夹紧使，容易对铬版造成损伤，从而降低了铬版的使用寿命，同时也影响光刻机后期的曝光的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻机用上版夹具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921322739.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-14
授权号 ：
CN210954607U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
张俊杰
申请人 ：
上海图双精密装备有限公司
申请人地址 ：
上海市青浦区华浦路500号6幢A区1层199室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921322739.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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