一种可防止颗粒产生的光刻机版库

授权

摘要

本实用新型公开了一种可防止颗粒产生的光刻机版库，属于掩模版盒存放机构包括垂直方向平行设置的若干金属支架，相邻两个金属支架相对方向对应设置若干卡子，所述卡子包括上卡子和下卡子，所述上卡子和下卡子之间形成容纳空间，所述容纳空间两侧对应的金属支架区域设有表面光滑的胶带。由于胶带表面光滑，厚度极薄可以忽略不计，大大降低了对掩模版盒的摩擦，有效地防止掩模版盒因摩擦产生颗粒的功能，起到避免沾污掩模版的效果，从而大大降低了光刻工艺生产的返工，节省人力物力。

基本信息

专利标题：

一种可防止颗粒产生的光刻机版库

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922396814.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-27

授权号：

CN210954614U

授权日：

2020-07-07

发明人：

徐惠懂王友伟

申请人：

爱特微（张家港）半导体技术有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市张家港经济技术开发区新丰东路3号

代理机构：

常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

杨静文

优先权：

CN201922396814.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20