一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置,包括传送带;其特征在于:还包括EUV辐射源产生单元、清洗单元、燃料注入单元、真空控制单元;所述EUV辐射源产生单元包括反光杯和激光器;在传送带的带体上设置有通光孔,在通光孔内设置有激光晶体,在激光晶体上部设置有涂层,在涂层上设置有多个微米孔,在微米孔内设置有可产生极紫外光的燃料;所述清洗单元包括碎片清洗腔和蒸汽喷头;所述燃料注入单元包括燃料注入腔和高压喷嘴;在燃料注入腔前部设置有第一机械臂和辅助光源,在燃料注入腔后部设置有第二机械臂。本实用新型有效实现了装置的连续运行,保证了燃料加注的可靠,提高了装置的产生效率,同时达到提高光刻精度的目的。

基本信息
专利标题 :
一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202220161971.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2022-01-21
授权号 :
CN216696984U
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
张玥
申请人 :
张玥
申请人地址 :
辽宁省沈阳市沈北新区兴明街15-12号
代理机构 :
沈阳科威专利代理有限责任公司
代理人 :
胡野
优先权 :
CN202220161971.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  H05G2/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332