用于辐射源的设备
公开
摘要
提供了一种容纳装置，该容纳装置被设置为容纳产生激光的等离子体辐射源的废产物。该容纳装置包括：第一部分，限定腔室；以及第二部分，至少部分地对腔室的入口进行限定。在使用中，废产物通过入口进入腔室。第二部分由包括陶瓷材料的材料形成。该容纳装置在用于光刻系统的辐射源中特别有用。
基本信息
专利标题 ：
用于辐射源的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114557136A
申请号 ：
CN202080072810.1
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-09-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·里彭P·P·A·A·布罗姆R·德鲁伊特M·V·格里克-吉伦G·梅利索尔戈斯T·J·斯考特
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080072810.1
主分类号 ：
H05G2/00
IPC分类号 ：
H05G2/00 G03F7/20
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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