辐射源装置和辐射检查设备
授权
摘要
本公开提供了一种辐射源装置和辐射检查设备。辐射源装置包括：辐射本体，包括具有多个辐射部的辐射源和与辐射源连接且罩于辐射源外的屏蔽罩，屏蔽罩具有用于辐射源输出射束的射束出射部；安装座，被配置为承载辐射本体；和辐射源位置调节机构，连接于屏蔽罩和安装座之间，辐射源位置调节机构被配置为调节并锁定辐射本体与安装座的相对位置。辐射源装置和辐射检查设备包括该辐射源装置。本公开的辐射源装置和辐射检查设备利于降低辐射源的工作位置调节难度，提高调节效率，以及利于降低采用该辐射源装置的辐射检查装置的整体重量和成本。
基本信息
专利标题 ：
辐射源装置和辐射检查设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123419275.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
CN216749331U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
季峥公令军党永乐侯利娜刘磊宋全伟倪秀琳马媛喻卫丰李营宗春光
申请人 ：
同方威视科技（北京）有限公司;同方威视技术股份有限公司
申请人地址 ：
北京市密云区经济开发区园林路18号
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
艾春慧
优先权 ：
CN202123419275.3
主分类号 ：
G21K1/02
IPC分类号 ：
G21K1/02 G21K5/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置，如聚焦或慢化
G21K1/02
使用光阑、准直器
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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