一种用于光刻机浸没控制装置

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种用于光刻机浸没控制装置。由注液腔和回收腔向外依次设置有环状的流场缓冲腔、密封结构和干燥腔。流场缓冲腔实时对曝光流场进行补偿，减少液体回流发生几率与强度；密封结构采用亲憎水表面特性处理与张力槽结构设计相结合方式，在垂直衬底方向上张力槽截面为向外倾斜的三角形，衬底运动牵拉的液体将在张力槽内形成回流，抑制液体泄漏；干燥腔内填充高吸水性物质、连通负压，实时排走可能存在的液滴残余。同时，液体输送方式采用正压供液、回收端自由流动，避免注液与回收压力不协调导致的流场波动。

基本信息

专利标题：

一种用于光刻机浸没控制装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820122034.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-07-29

授权号：

CN201233505Y

授权日：

2009-05-06

发明人：

付新陈晖陈文昱阮晓东杨华勇

申请人：

浙江大学

申请人地址：

310027浙江省杭州市西湖区浙大路38号

代理机构：

杭州求是专利事务所有限公司

代理人：

林怀禹

优先权：

CN200820122034.8

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20