一种用于光刻机的光子数量控制器
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于光刻机的光子数量控制器及含有其的光刻机,所述光子数量控制器包括由耐高温的非波导材料制成的基板,在基板上设置一孔径极小的通光孔,在通光孔的一侧设置有光致发光体,通光孔内设置有由多根纳米管构成的纳米管束。所述光刻机,包括激光器和光束矫正器,其特征在于,在激光器和光束矫正器之间设置有光子数量控制器。本实用新型结构中,通过光致发光体吸收并再次激发形成的极紫外光光子再通过纳米管束的引导及分流作用,形成多条极细的光束输送至物镜用于进行刻蚀。纳米管的管径小,且直线度好,且多个纳米管形成的管束具备分流作用,从而使光束的集中度好,进而提高刻蚀的精度。

基本信息
专利标题 :
一种用于光刻机的光子数量控制器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021012157.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-05
授权号 :
CN212460307U
授权日 :
2021-02-02
发明人 :
张玥
申请人 :
张玥
申请人地址 :
辽宁省沈阳市沈北新区兴明街15-12号
代理机构 :
沈阳科威专利代理有限责任公司
代理人 :
胡野
优先权 :
CN202021012157.3
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-02-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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