一种用于光刻机的晶片吸盘
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摘要

本发明公开了一种用于光刻机的晶片吸盘,支撑台的底面上成型有圆柱槽状的旋转安置槽;旋转安置槽内旋转设置有圆柱状的中心切换块;中心切换块的下侧壁上成型有四个圆周均匀分布的分配孔;中心切换块的下侧壁中心成型有与导气总管连通的中心导气孔;内移动槽的内侧壁上成型有L型状的外限位导气孔;外限位导气孔的上端贯穿设置并且与分配孔配合;底座内成型有四个圆周均匀分布的径向设置的下径向导气管;下径向导气管位于一对相邻的内移动槽之间;下径向导气管上成型若干与上导气孔配合的向上贯穿的下导气孔;下径向导气管内侧端成型有与分配孔配合的向上贯穿的内限位导气孔。

基本信息
专利标题 :
一种用于光刻机的晶片吸盘
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112068402A
申请号 :
CN202010939978.X
公开(公告)日 :
2020-12-11
申请日 :
2020-09-09
授权号 :
CN112068402B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
秦小燕
申请人 :
咸宁恒舟信息科技有限公司
申请人地址 :
湖北省咸宁市咸宁大道158号(咸宁同惠广场)1幢1单元16层1607号
代理机构 :
北京众合诚成知识产权代理有限公司
代理人 :
王熙文
优先权 :
CN202010939978.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-22 :
授权
2022-04-19 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : G03F 7/20
登记生效日 : 20220407
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 王军明
变更后权利人 : 江西芯光微电子有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 300000 天津市南开区黄河道495号
变更后权利人 : 344000 江西省抚州市南城县河东工业园区电子产业园二期
2022-04-08 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : G03F 7/20
登记生效日 : 20220329
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 咸宁恒舟信息科技有限公司
变更后权利人 : 王军明
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 437000 湖北省咸宁市咸宁大道158号(咸宁同惠广场)1幢1单元16层1607号
变更后权利人 : 300000 天津市南开区黄河道495号
2020-12-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200909
2020-12-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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