一种接触式光刻机吸盘
授权
摘要
本实用新型提供一种接触式光刻机吸盘。所述一种接触式光刻机吸盘，包括吸盘A和吸盘体，吸盘A一侧设置有销轴孔，吸盘体一侧设置销轴孔，销轴与销轴孔轴向间隙配合，吸盘体一侧与吸盘A间隙配合，吸盘体另一侧与吸盘B间隙配合。本实用新型提供的一种接触式光刻机吸盘通过采用真空吸气槽，真空吸气槽是由硅胶制成，硅胶材料和金属材料相比硬度低不会对被吸件造成损害，设置了多个通气孔且分布均匀使得被吸件在吸附是所受到的力变得均匀，解决了现有的吸盘是金属材质，如果控制不好吸引力很容易导致被吸物件出现损坏的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种接触式光刻机吸盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921322740.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-14
授权号 ：
CN210428087U
授权日 ：
2020-04-28
发明人 ：
唐阳明
申请人 ：
上海图双精密装备有限公司
申请人地址 ：
上海市青浦区华浦路500号6幢A区1层199室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921322740.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-04-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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