一种光刻机用陶瓷吸盘
授权
摘要
本实用新型公开了一种光刻机用陶瓷吸盘，包括吸盘主体，所述吸盘主体前侧设置有应力消除机构；所述应力消除机构包括第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽；所述吸盘主体内部中间等距环绕开设有多个第一凹槽，且多个第一凹槽外侧均对应开设有第二凹槽，所述第二凹槽外侧对应设置有第三凹槽。本实用新型通过吸盘主体上的第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽和第四凹槽，在吸盘主体上内壁的多个位置，先设置大的第一凹槽、第二凹槽和第三凹槽，消除一部分应力，然后再在第一凹槽、第二凹槽和第三凹槽内壁上设置多个小型的第四凹槽，不仅可以提升消除应力的效果，还能够避免多个小型凹槽在吸盘表面，容易损坏的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻机用陶瓷吸盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022435130.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-28
授权号 ：
CN213715699U
授权日 ：
2021-07-16
发明人 ：
高岩张德胜
申请人 ：
大连榕树光学有限公司
申请人地址 ：
辽宁省大连市大连保税区黄海西四路215号宜华大厦1104
代理机构 ：
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵芳蕾
优先权 ：
CN202022435130.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-07-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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