一种光刻机用上版夹具
授权
摘要
本实用新型公开了一种光刻机用上版夹具，包括装置主体、吸气头和吸气泵，所述装置主体的上侧安装有吸盘，且吸盘之间固定有外支杆，所述装置主体侧边开设有调节滑槽，且调节滑槽的外侧设置有外挡块和限位件，所述外挡块的中间固定有调节杆，且调节杆上固定有内挡块，所述内挡块位于装置主体的内部，且装置主体的上侧开设有位移槽，所述吸盘穿过位移槽与吸气头相连接，且吸气头的下端连接有吸气泵。该光刻机用上版夹具，可以使用吸附的方式完成对芯片板材的固定工作，同时吸盘之间设置有外支杆，通过外支杆的设置，也可以对芯片板材进行夹持固定，从而通过吸盘和外支杆配合工作，便可以保证芯片板材的固定状态稳定安全。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻机用上版夹具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922185215.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-09
授权号 ：
CN211015013U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
王伟
申请人 ：
浙江上峰包装新材料有限公司
申请人地址 ：
浙江省绍兴市诸暨市次坞镇古竹院村（杭金公路旁）
代理机构 ：
苏州铭恒知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴月琴
优先权 ：
CN201922185215.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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