一种底部不规则物体的光刻辅助装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种底部不规则物体的光刻辅助装置，属于集成电路制造技术领域。该装置包括柔性衬板、待光刻物体、载物台和掩膜版，柔性衬板设置在载物台上，待光刻物体的底面为非平面，待光刻物体底部的非平面设置在柔性衬板中部，待光刻物体的顶面与载物台顶面平行，待光刻物体的顶面与掩膜版贴合。在找平过程中，柔性衬板作为载物台的支撑物使待光刻物体的不规则底面与柔性衬板紧密接触以保证待光刻物体的顶面与掩膜版充分接触并保持平行，降低光刻时找平的难度，操作简单，提高光刻精度，大幅提高成品率。
基本信息
专利标题 ：
一种底部不规则物体的光刻辅助装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021333072.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-09
授权号 ：
CN212749521U
授权日 ：
2021-03-19
发明人 ：
杨晓东岳晓斌李小珍邢孟江
申请人 ：
宁波芯纳川科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市北仑区小港街道安居弄27号2幢1号一层-2、-3
代理机构 ：
北京市盈科律师事务所
代理人 ：
罗东
优先权 ：
CN202021333072.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-03-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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