一种紫外双波段曝光镜头

授权

摘要

本实用新型公开了一种紫外双波段曝光镜头，包括前透镜组、光阑以及后透镜组，光阑位于前透镜组及后透镜组之间，前透镜组包括依次设置的第一透镜，第一透镜为双凸透镜；第二透镜，第二透镜为平凸透镜；第三透镜，第三透镜为凹凸透镜；第四透镜，第四透镜为平凹透镜；后透镜组包括依次设置的第五透镜，第五透镜为凹凸透镜；第六透镜，第六透镜为平凸透镜，通过上述设计，本实用新型紫外双波段曝光镜头能够同时兼容375nm和405nm两个波段的激光光源，并且结构简单、透过率高、畸变低、物像远心度小。

基本信息

专利标题：

一种紫外双波段曝光镜头

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021770681.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-08-21

授权号：

CN212623317U

授权日：

2021-02-26

发明人：

桂立

申请人：

苏州赛源光学科技有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市高新区浒杨路58号许氏科技306室

代理机构：

广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙)

代理人：

葛燕婷

优先权：

CN202021770681.7

主分类号：

G02B13/22

IPC分类号：

G02B13/22 G03F7/20