一种三波段UV-LED曝光光源
授权
摘要

本实用新型公开了一种三波段UV‑LED曝光光源,包括电路控制模块、连接外壳、合光器、透镜组二、透镜组一、匀光模块、透镜组二、平台组件和UV‑LED阵列,所述连接外壳的内部中间设有两个合光器,两个合光器的倾斜角度为45度,且两个合光器左右中心对应,所述UV‑LED阵列的个数为三个,通过合光器可以将UV‑LED阵列光源发射的紫外光合束形成平行光,通过透镜组三对光线会聚、准直、发散等光处理后获得满足曝光面要求的平行光,最终入射到后面平台组件上,该三波段UV‑LED曝光光源结构简单,不但可以根据曝光台面所需曝光波长和曝光能量的实际需求任意组合,选择性开闭,弥补了单一波段光源大能量长时间工作造成的寿命缩减,而且方便UV‑LED芯片的更换。

基本信息
专利标题 :
一种三波段UV-LED曝光光源
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020521582.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-10
授权号 :
CN211979418U
授权日 :
2020-11-20
发明人 :
李康张博王艳军
申请人 :
河南百合特种光学研究院有限公司
申请人地址 :
河南省新乡市红旗区新东大道166号
代理机构 :
新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
周闯
优先权 :
CN202020521582.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-11-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211979418U.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332