一种大功率多波段曝光光源
授权
摘要
本实用新型公开了一种大功率多波段曝光光源,包括多波段UV‑LED光源模组、激光光源模组、合光器、整形器件组、光学积分器和曝光组件;以多波段UV‑LED环形光斑和激光光斑耦合的方式实现台面的平行光曝光,可以实现台面不同波段的大功率输出,能够显著提升曝光的质量,还可以实现不同紫外工作波段的快速切换,对于台面不同类型光刻胶及不同曝光能量的需求具有更好的适用性。
基本信息
专利标题 :
一种大功率多波段曝光光源
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020666328.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-27
授权号 :
CN211979419U
授权日 :
2020-11-20
发明人 :
张博李康王艳军陈龙飞刘琴
申请人 :
河南百合特种光学研究院有限公司
申请人地址 :
河南省新乡市红旗区新东大道166号
代理机构 :
新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
杨杰
优先权 :
CN202020666328.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-11-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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