γ源曝光中心装置
授权
摘要
本实用新型提供了γ源曝光中心装置，包括空心管状主机、输源管、支撑臂，主机周侧至少设3个支撑臂，支撑臂包括滑轮、支脚，支脚上安装滑轮，支脚包括相套合的粗管体及细管体，细管体端部转动连接滑轮，细管体上延轴向分布有多个定位珠，对应的粗管体腔内壁上开孔，本γ源曝光中心装置的支撑臂采用定位珠进行定位，自由拉伸进行长度的调节，便于适应不同管径的检测。
基本信息
专利标题 ：
γ源曝光中心装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922052272.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-25
授权号 ：
CN211086148U
授权日 ：
2020-07-24
发明人 ：
蔡玉乐蔡元立
申请人 ：
蔡元立
申请人地址 ：
浙江省宁波市镇海区蛟川街道石化三公司居民区93幢401室
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪建华
优先权 ：
CN201922052272.7
主分类号 ：
G01N23/04
IPC分类号 ：
G01N23/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2020-07-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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