一种中心探伤便于调节的曝光支架
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及探伤技术领域,且公开了一种中心探伤便于调节的曝光支架,包括底板,所述底板的底部固定连接有万向轮,所述底板的顶部开设有滑道,所述底板的顶部固定连接有推手,所述底板的顶部固定连接有第一电机,所述第一电机的输出轴通过联轴器固定连接有连接座,所述连接座的底部固定连接有固定柱,所述连接座的顶部开设有放置槽,所述放置槽的内壁固定连接有第二电机,所述第二电机的输出轴通过联轴器固定连接有螺杆。该中心探伤便于调节的曝光支架,能够达到高度方便调节的目的,使探伤装置本体能够对不同高度的机器进行探伤,同时也能够对同种机器不同位置进行探伤,提高了装置的实用性,满足了人们的使用需求。

基本信息
专利标题 :
一种中心探伤便于调节的曝光支架
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021090698.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-13
授权号 :
CN212301543U
授权日 :
2021-01-05
发明人 :
申军辉高俊杰申丁卯
申请人 :
河北和邦能源科技有限公司
申请人地址 :
河北省石家庄市经济技术开发区丰产路9号园区办公楼三层东
代理机构 :
北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张铁兰
优先权 :
CN202021090698.8
主分类号 :
G01N33/20
IPC分类号 :
G01N33/20  G01N33/2045  F16M11/24  F16M11/08  B62B3/02  B62B5/06  B62B5/00  B60B33/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N33/20
•金属
法律状态
2022-05-27 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01N 33/20
申请日 : 20200613
授权公告日 : 20210105
终止日期 : 20210613
2021-01-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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