一种全自动曝光机中心定位平台升降装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种全自动曝光机中心定位平台升降装置，包括机箱，所述机箱的底端外壁四角处均固定连接有调节支座，所述机箱的顶部外壁固定连接有工作台，且工作台的顶部内壁两侧均固定连接有驱动滑架，两个所述驱动滑架的内壁滑动连接有同一个横置移动架，所述横置移动架的中部设有滑动槽，且滑动槽的内壁滑动连接有曝光机仓，所述曝光机仓的顶部外壁固定连接有曝光平台，且曝光平台的四角处均固定连接有升降组件。本实用新型的四角处通过独立升降组件形成独立控制调节，实现初始精度校准和补偿，升降组件通过统一信号控制器控制，其升降通过丝杠步进驱动微调，液压杆粗调，实现粗细调节结合，提高定位平台的升降精度，便于对焦。
基本信息
专利标题 ：
一种全自动曝光机中心定位平台升降装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021457712.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-22
授权号 ：
CN212460310U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
杨中
申请人 ：
深圳德尚自动化设备有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福海街道桥头社区灶下路74号602
代理机构 ：
深圳市鼎智专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汤银
优先权 ：
CN202021457712.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 F16M7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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