自动曝光控制系统及自动曝光控制方法

授权

摘要

本发明提供一种自动曝光控制系统及自动曝光控制方法，包括：计算机，通过路由器与平板探测器通讯；平板探测器，执行自动曝光控制及图像采集，并发送闸断控制信号及采集到的信息；高压控制器，与平板探测器通讯，基于闸断控制信号关闭高压发生装置；球管，基于高压发生装置发出的高压信号发出X射线。本发明采用无线方式传输闸断控制信号，应用场景不限；基于平板探测器的曝光辐照射野区域的曝光剂量检测实现自动曝光控制并实时统计或者预测曝光结束时的曝光剂量，结构简单、成本低，可有效避免线路延迟等问题造成的曝光剂量误差；同时采图周期短、操作复杂度低。

基本信息

专利标题：

自动曝光控制系统及自动曝光控制方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112690811A

申请号：

CN202011543485.0

公开（公告）日：

2021-04-23

申请日：

2020-12-23

授权号：

CN112690811B

授权日：

2022-06-03

发明人：

黄翌敏何承林

申请人：

上海奕瑞光电子科技股份有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区瑞庆路590号9幢2层202室

代理机构：

上海光华专利事务所(普通合伙)

代理人：

施婷婷

优先权：

CN202011543485.0

主分类号：

A61B6/00

IPC分类号：

A61B6/00