自动曝光控制方法及系统

授权

摘要

本发明提供一种自动曝光控制方法及系统，包括：待拍摄物体进入拍摄区域，对待拍摄物体进行图形采集并获取待拍摄部位的位置信息；基于待拍摄物体与平板探测器的相对位置，确定平板探测器的曝光辐照射野；选定平板探测器的曝光辐照射野，对待拍摄部位进行曝光，完成曝光后平板探测器触发图像采集。本发明通过视觉装置采集信息，计算分析得到辐照射野选择范围，降低了操作人员的主观影响，曝光辐照射野选择更加精准；基于曝光辐照射野区域的曝光剂量检测实现自动曝光控制，结构简单、成本低；通过算法预测曝光剂量，可有效避免曝光剂量误差，实现精准曝光控制，提高成像质量；在检测到曝光结束后立即自动采集图像，缩短了采图周期。

基本信息

专利标题：

自动曝光控制方法及系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112672068A

申请号：

CN202011543513.9

公开（公告）日：

2021-04-16

申请日：

2020-12-23

授权号：

CN112672068B

授权日：

2022-05-03

发明人：

黄翌敏何承林

申请人：

上海奕瑞光电子科技股份有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区瑞庆路590号9幢2层202室

代理机构：

上海光华专利事务所(普通合伙)

代理人：

施婷婷

优先权：

CN202011543513.9

主分类号：

H04N5/235

IPC分类号：

H04N5/235