一种基于曝光剂量控制系统的曝光剂量控制方法
公开
摘要
本申请提供了一种基于曝光剂量控制系统的曝光剂量控制方法，该方法包括：控制快门打开；接收能量传感器采集到的能量值，基于能量值确定累计曝光剂量值；确定累计曝光剂量值是否不小于目标剂量值；若累计曝光剂量值不小于目标剂量值，则控制快门开始关闭；将快门完全关闭后的抖动延时结束时刻对应的累计曝光剂量值作为实际累计曝光剂量值；基于实际累计曝光剂量值，确定曝光剂量误差值；确定曝光剂量误差值是否满足要求；若曝光剂量误差值不满足要求，则更新等效剂量值，返回执行第一步；若曝光剂量误差值满足要求，将等效剂量值应用到曝光系统中。通过一种基于曝光剂量控制系统的曝光剂量控制方法，解决了曝光剂量控制精度低的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种基于曝光剂量控制系统的曝光剂量控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114578658A
申请号 ：
CN202210214784.2
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-03-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘玉倩张炳寅张利云高繁星
申请人 ：
北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区泰河三街1号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
高燕
优先权 ：
CN202210214784.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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