用于X射线成像的自动曝光控制
实质审查的生效
摘要
在X射线成像方法中，获取信号图像被分成获取两个或更多个子图像或帧。第一子图像可以用低剂量曝光随后的读出周期获取。可以选择用于获取第一子图像的曝光剂量，使得其低于用于特定解剖结构的默认剂量。第一子图像可以用来计算或估计用于获取第二个或后续图像的子图像的曝光参数。该估计可以使得由成像器接收的总剂量在获取第一子图像和第二子图像中达到预期目标值以提供质量良好的图像。可以组合第一子图像和第二子图像以形成最终图像。支持自动曝光控制(AEC)的检测器阵列包括提供AEC信号的AEC像素。AEC像素是独立或单独可寻址的和/或可读取的。
基本信息
专利标题 ：
用于X射线成像的自动曝光控制
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114469147A
申请号 ：
CN202210053714.3
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2016-07-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
D·莫尔夫R·菲利贝蒂
申请人 ：
瓦里安医疗系统国际股份公司
申请人地址 ：
瑞士楚格
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
王茂华
优先权 ：
CN202210053714.3
主分类号 ：
A61B6/00
IPC分类号 ：
A61B6/00 H05G1/28 H05G1/60
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61B
诊断；外科；鉴定
A61B6/00
用于放射诊断的仪器，如与放射治疗设备相结合的
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : A61B 6/00
申请日 : 20160708
申请日 : 20160708
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
