清洁系统、曝光机台及清洁方法
实质审查的生效
摘要
本发明提出一种清洁系统、曝光机台及清洁方法；清洁系统集成于曝光机台中，曝光机台包含浸没罩及可平移地设置于浸没罩下方的工作台；清洁系统包含图像采集单元、清洁单元以及控制单元；图像采集单元设置于工作台表面，用以采集浸没罩的通孔的图像信息；清洁单元包含清洁管及真空泵，清洁管设置于工作台内部，且一端由工作台顶面伸出，真空泵连接于清洁管另一端；控制单元电连接于图像采集单元和真空泵；控制单元用以根据图像信息判断通孔是否堵塞，控制工作台平移，使清洁管一端位于堵塞的通孔的正下方，并控制真空泵通过清洁管对堵塞的通孔施加负压，以清洁浸没罩。
基本信息
专利标题 ：
清洁系统、曝光机台及清洁方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114518696A
申请号 ：
CN202011313117.7
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2020-11-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
房璐璐梁学玉
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
代理机构 ：
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙宝海
优先权 ：
CN202011313117.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 B08B5/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201120
申请日 : 20201120
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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