本发明提供了一种从下方扫描掩膜板实现曝光的曝光方法和一种曝光机台，包括光源发生器、线路数据输入装置、光源偏转装置、光源控制装置、激光干涉仪、曝光室、调整出射光的焦距的透镜，以及位于曝光室内的掩膜板固定装置，该固定装置位于曝光出射口的上方，当掩膜原板固定在该固定装置上时，掩膜原板的光阻层面向曝光源。由于掩膜原板的光阻层是向下的，则在曝光过程中，可以避免颗粒掉落在掩膜板的曝光表面上，从而可以减少颗粒污染导致的连条等缺陷，降低掩膜板报废区域(scrap)的比例，提高掩膜板的质量和成品率。并且当采用洁净气体吹光阻层表面时，可以更容易的去除已经附在掩膜板光阻层表面的颗粒。