光罩清洗设备
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种擦拭清洗光罩的设备,特别是指一种可迅速、且有效去除光罩表面微粒子与雾化污渍的设备,该设备至少包含有一输送装置、一侧边擦拭装置及一顶面擦拭装置,以利用输送装置载送光罩依序经由侧边擦拭装置与顶面擦拭装置,而利用含浸有清洗液的擦拭件直接接触擦拭该光罩的上、下边缘表面与顶部表面,借此可有效、且迅速的去除光罩护膜外表面的微粒子与雾化污渍等,以缩短光罩清洗及再运用时间,同时不致污染光罩护膜或留下清洗水痕,并大幅提升光罩清洗后的洁净度。

基本信息
专利标题 :
光罩清洗设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720127313.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-08-10
授权号 :
CN201122229Y
授权日 :
2008-09-24
发明人 :
廖莉雯
申请人 :
廖莉雯
申请人地址 :
中国台湾台北县
代理机构 :
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 :
寿宁
优先权 :
CN200720127313.9
主分类号 :
G03F1/00
IPC分类号 :
G03F1/00  H01L21/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
法律状态
2010-11-10 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101014883196
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利号 : ZL2007201273139
申请日 : 20070810
授权公告日 : 20080924
终止日期 : 20090910
2008-09-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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