光罩清洗辅助治具
授权
摘要
本实用新型实施例提供一种光罩清洗辅助治具,包括承载板,承载板上开设有用于容置待清洗光罩的容纳槽,容纳槽内侧壁上设有至少两个定位结构,每个定位结构包括四个分别设于容纳槽的四角落处的定位台阶,每个定位台阶包括承载面和两个相互垂直且均垂直于所述承载面以抵靠定位待清洗光罩的对应侧边的定位面,每个定位结构的各个定位台阶的承载面位于同一平面内,且每个定位结构的四个定位台阶的承载面和定位面共同限定一个与一种尺寸规格的待清洗光罩适配的区域,不同定位结构限定的容纳区域对应容置不同尺寸规格的待清洗光罩。本实用新型实施例设多个定位结构,可容置不同尺寸规格的待清洗光罩,适用性强。本光罩清洗辅助治具可应用于光罩清洗机。
基本信息
专利标题 :
光罩清洗辅助治具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920574141.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-23
授权号 :
CN209486465U
授权日 :
2019-10-11
发明人 :
杜武兵林伟刘来孟
申请人 :
深圳市路维光电股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区朗山路16号华瀚创新园办公楼D座102
代理机构 :
深圳市翼智博知识产权事务所(普通合伙)
代理人 :
黄莉
优先权 :
CN201920574141.2
主分类号 :
G03F1/82
IPC分类号 :
G03F1/82
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺,例如清洗
法律状态
2019-10-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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