图案形成基板、电光学装置及电光学装置的制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供了一种提高了液滴形成图案形状均匀性的图案形成基板、电光学装置、及电光学装置的制造方法。在形成液滴收容空间(S)的第2隔壁(W2)的弹落面(20a)侧上，形成由亲液性材料构成的第3层间绝缘膜(21)、并在该第3层间绝缘膜(21)上形成了贯通孔(21h)。这样，使贯通孔(21h)的内周面(第1隔壁(W1))形成为从该弹落面(20a)侧(底部(W1a))向该弹落面(20a)的面方向外侧扩展，并在弹落面(20a)的外周，由第1隔壁(W1)形成引入沟(23)。
基本信息
专利标题 ：
图案形成基板、电光学装置及电光学装置的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1794482A
申请号 ：
CN200510136972.4
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2005-12-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
酒井宽文
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
李香兰
优先权 ：
CN200510136972.4
主分类号 ：
H01L51/50
IPC分类号 ：
H01L51/50 H01L51/52 H01L51/56 H01L33/00 H01L21/00 H01L21/208 H01L21/288 H05B33/12 H05B33/02 H05B33/10
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法律状态
2009-10-21 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-23 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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