批量形成机构和基板处理装置
授权
摘要
本实用新型提供一种批量形成机构和基板处理装置，其形成与工艺条件、硬件条件相应的批量。本公开的一形态的批量形成机构具备接收部、间距转换部以及保持部。接收部以能够在垂直方向上移动的方式配置，从输送机构接收以预定的间距排列的多张基板。间距转换部用于转换以等间隔排列配置的多张基板的间距。保持部以能够在水平方向上移动的方式配置，用于暂时保持多张基板。
基本信息
专利标题 ：
批量形成机构和基板处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022355090.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-21
授权号 ：
CN213635931U
授权日 ：
2021-07-06
发明人 ：
隐塚惠二甲斐义广岩野纯一
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202022355090.X
主分类号 ：
H01L21/677
IPC分类号 ：
H01L21/677
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的，例如在不同的工作站之间
法律状态
2021-07-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
