基板处理装置及基板处理方法

专利权的终止

摘要

本发明防止处理液的蒸气和雾气从处理室内向处理室外泄漏。在容器(2)的内部形成处理室。容器(2)由非磁性材料构成。喷雾器(3)在处理室内，将处理液向基板(1)的表面进行喷涂。在处理室内，以设定的间隔设置有多数个旋转轴(11)。在旋转轴(11)上安装有多数个滚子(10)，且在一端安装有磁石(13)。在处理室外设置有电动机，且在电动机上连结有旋转轴(21)。在旋转轴(21)上，在隔着容器(2)而与各磁石(13)对向的位置上，安装有多数个磁石(23)。当利用电动机的驱动而使磁石(23)进行旋转时，磁石(13)进行旋转，并使电动机的驱动力通过处理室的内外的空间，向旋转轴(11)上所安装的滚子(10)非接触地进行传达。

基本信息

专利标题：

基板处理装置及基板处理方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1841695A

申请号：

CN200610002717.5

公开（公告）日：

2006-10-04

申请日：

2006-01-25

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

森口善弘福田浩

申请人：

日立高科技电子工程株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司

代理人：

寿宁

优先权：

CN200610002717.5

主分类号：

H01L21/677

IPC分类号：

H01L21/677 B65G49/06 B65G39/00