光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
实质审查的生效
摘要
公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：包含具有酸不稳定基团的重复单元的酸敏感聚合物；包含阴离子和阳离子的碘鎓盐，所述碘鎓盐具有式(1)：其中Z‑是有机阴离子；Ar1是取代或未取代的包含呋喃杂环的C4‑60杂芳基；并且R1是如本文提供的取代或未取代的烃基，其中所述阳离子任选地包含酸不稳定基团，其中Ar1和R1任选地经由单键或一个或多个二价连接基团彼此连接形成环，并且其中所述碘鎓盐任选地通过Ar1或其取代基作为侧基共价键合至聚合物，所述碘鎓盐任选地通过R1或其取代基作为侧基共价键合至聚合物，或者所述碘鎓盐任选地通过Z‑作为侧基共价键合至聚合物；以及溶剂。
基本信息
专利标题 ：
光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114442426A
申请号 ：
CN202111102905.6
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2021-09-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
T·马兰戈尼E·阿卡德J·W·萨克莱J·F·卡梅伦侯希森李忠奉
申请人 ：
罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
陈哲锋
优先权 ：
CN202111102905.6
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/027 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20210917
申请日 : 20210917
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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