形成厚膜用正型光致抗蚀剂组合物
授权
摘要
本发明是提供一种，除了其他优点以外，对在基板上形成比较厚的光致抗蚀剂膜用为合适的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物。本案组合物含有，(A)光酸产生剂，(B)因酸的作用对碱溶液的溶解性增大的碱不溶性树脂，(C)碱可溶性树脂及(D)有机溶剂，其中组分(C)是(C1)聚羟基苯乙烯或至少含有80质量％的羟基苯乙烯单元的共聚物，其量相对于(B)成分与(C)成分合计量100质量份，不超过15质量份的量。
基本信息
专利标题 ：
形成厚膜用正型光致抗蚀剂组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101142530A
申请号 ：
CN200680008846.3
公开（公告）日 ：
2008-03-12
申请日 ：
2006-03-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
三隅浩一奥井俊树
申请人 ：
东京应化工业株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
张平元
优先权 ：
CN200680008846.3
主分类号 ：
G03F7/039
IPC分类号 ：
G03F7/039
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂
法律状态
2010-11-24 ：
授权
2008-05-07 ：
实质审查的生效
2008-03-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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