抗蚀剂下层膜形成用组合物
授权
摘要
本发明的课题是提供常温下的保存稳定性优异的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：含氮化合物、聚合物、促进交联反应的化合物和有机溶剂，1分子所述含氮化合物中具有2～6个与氮原子键合的下述式(1)所示的取代基。1分子中具有2～6个所述式(1)所示的取代基的含氮化合物为例如下述式(1A)所示的甘脲衍生物。(式中，R1各自独立地表示甲基或乙基，R2和R3各自独立地表示氢原子、碳原子数1～4的烷基、或苯基。)
基本信息
专利标题 ：
抗蚀剂下层膜形成用组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109073977A
申请号 ：
CN201780025998.2
公开（公告）日 ：
2018-12-21
申请日 ：
2017-04-11
授权号 ：
CN109073977B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
境田康志高濑显司岸冈高广坂本力丸
申请人 ：
日产化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
王磊
优先权 ：
CN201780025998.2
主分类号 ：
G03F7/11
IPC分类号 ：
G03F7/11 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的，例如，胶层
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2019-04-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/11
申请日 : 20170411
申请日 : 20170411
2018-12-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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