负型抗蚀剂组合物及图像形成方法

发明专利申请公布后的驳回

摘要

本发明提供了一种负型抗蚀剂组合物，其包含一种包含具有式(1)的重复单元的聚合物、一种光致酸生成剂和一种交联剂。在式(1)中，X是烷基或烷氧基，R¹和R²是H、OH、烷基、可取代的烷氧基或卤素，R³和R⁴是H或CH₃，n是1至4的整数，m和k是1至5的整数，p、q和r是正数。该组合物具有高的曝光前后的碱溶解率对比、高灵敏度、高分辨率和良好的蚀刻性。

基本信息

专利标题：

负型抗蚀剂组合物及图像形成方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1825206A

申请号：

CN200610059991.6

公开（公告）日：

2006-08-30

申请日：

2006-01-10

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

小板桥龙二渡边保武田隆信渡边聪

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

任宗华

优先权：

CN200610059991.6

主分类号：

G03F7/038

IPC分类号：

G03F7/038 G03F7/16 G03F7/20

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/004

感光材料

G03F7/038

高分子化合物被制备成不溶解的或非均匀可湿的

法律状态

2015-09-16 ：

发明专利申请公布后的驳回

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101721091111
IPC(主分类) : G03F 7/038
专利申请号 : 2006100599916
申请公布日 : 20060830

2008-01-09 ：

实质审查的生效

2006-08-30 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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