抗蚀剂图案形成方法及抗蚀剂

授权

摘要

本发明的抗蚀剂图案形成方法包含以下工序：制备放射线敏感性树脂组合物的制备工序、在基板上形成放射线敏感性树脂组合物的涂膜的涂敷工序、在第1温度对涂膜进行加热的第1热处理工序、对得到的抗蚀剂膜照射活性放射线的曝光工序、以及曝光工序开始以后在第2温度条件下保持抗蚀剂膜的第2热处理工序，上述放射线敏感性树脂组合物含有碱溶性树脂(a)、交联成分(b)及吸收活性放射线的化合物(c)，相对于100质量份的树脂(a)，包含超过1.0质量份的化合物(c)。在此，第1温度为第2温度以上。

基本信息

专利标题：

抗蚀剂图案形成方法及抗蚀剂

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN108700835A

申请号：

CN201780010236.5

公开（公告）日：

2018-10-23

申请日：

2017-03-15

授权号：

CN108700835B

授权日：

2022-05-27

发明人：

阿部信纪佐藤信宽

申请人：

日本瑞翁株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

邵秋雨

优先权：

CN201780010236.5

主分类号：

G03F7/38

IPC分类号：

G03F7/38 G03F7/004 G03F7/038 G03F7/20 G03F7/26 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/26

感光材料的处理及其设备

G03F7/38

去除影像之前的处理，例如，预烘干

法律状态

2022-05-27 ：

授权

2018-11-16 ：

实质审查的生效

IPC(主分类) : G03F 7/38
申请日 : 20170315

2018-10-23 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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