形成抗反射薄膜的组合物，层状产品，和抗蚀剂图案的形成方法
授权
摘要
形成抗反射膜的组合物，其具有优异的适用性，在产生超细微泡方面受到了显著抑制，产生能够足够地减少驻波效应的抗反射薄膜并且具有优异的在水和碱性显影液中的溶解性。所述形成抗反射膜的组合物包含：(A)由例如2－(甲基)丙烯酰氨基－2－甲基丙烷磺酸代表的含磺酸基的丙烯酰胺衍生物和例如由2，2，3，3，3－五氟丙基(甲基)丙烯酸酯代表的含氟代烷基的丙烯酸酯衍生物的共聚物(盐)；和(B)表面活性剂，其0.1wt％的水溶液具有在25℃下测量的45mN/m或更低的表面张力。
基本信息
专利标题 ：
形成抗反射薄膜的组合物，层状产品，和抗蚀剂图案的形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101080674A
申请号 ：
CN200580043412.2
公开（公告）日 ：
2007-11-28
申请日 ：
2005-11-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
能村仲笃今野圭二
申请人 ：
捷时雅株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
陈季壮
优先权 ：
CN200580043412.2
主分类号 ：
G03F7/11
IPC分类号 ：
G03F7/11 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的，例如，胶层
法律状态
2013-09-18 ：
授权
2008-01-23 ：
实质审查的生效
2007-11-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
