正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
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摘要
一种正型抗蚀剂组合物，其中含有在酸的作用下碱溶性增大的树脂成分(A)和通过曝光产生酸的酸产生剂成分(B)，其中上述树脂成分(A)是共聚物(A1)和共聚物(A2)的混合物，所述共聚物(A1)具有衍生自含有酸离解性溶解抑制基的丙烯酸酯的结构单元(a1)、衍生自含有含内酯单环式基的甲基丙烯酸酯的结构单元(a2)和衍生自含有含极性基多环式基的丙烯酸酯的结构单元(a3)，所述共聚物(A2)具有不同于上述共聚物(A1)的结构，而且亲水性低于上述共聚物(A1)。
基本信息
专利标题 ：
正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101107567A
申请号 ：
CN200680003225.6
公开（公告）日 ：
2008-01-16
申请日 ：
2006-01-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
竹下优
申请人 ：
东京应化工业株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200680003225.6
主分类号 ：
G03F7/039
IPC分类号 ：
G03F7/039 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂
法律状态
2012-02-01 ：
授权
2008-03-05 ：
实质审查的生效
2008-01-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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