光致抗蚀剂组合物及形成光刻图案的方法
授权
摘要
本发明提供了一种光致抗蚀剂组合物及形成光刻图案的方法。上述光致抗蚀剂组合物包括：(A)在酸的作用下碱溶性发生变化的树脂，(B)光致产酸剂；光致产酸剂选自具有通式(I)或通式(II)所示结构的化合物中的一种或几种。相比于现有的化学增幅型光致抗蚀剂，本申请提供的光致抗蚀剂组合物具有较好的相容性好和较高的化学稳定性，在黑暗室温的条件下，能够长时间保存，不易产生微小粒子；同时其还具有较高的灵敏度，形成的抗蚀图案形状好，且显影后形成的抗蚀图案的瑕疵点少。
基本信息
专利标题 ：
光致抗蚀剂组合物及形成光刻图案的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111694215A
申请号 ：
CN201910194500.6
公开（公告）日 ：
2020-09-22
申请日 ：
2019-03-14
授权号 ：
CN111694215B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
胡春青金晓蓓
申请人 ：
常州强力先端电子材料有限公司;常州强力电子新材料股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市天宁区郑陆镇武澄工业园
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
韩建伟
优先权 ：
CN201910194500.6
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/038 G03F7/039 G03F7/26 G03F7/38 G03F7/40 G03F7/30 G03F7/20
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法律状态
2022-04-19 ：
授权
2020-10-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20190314
申请日 : 20190314
2020-09-22 ：
公开
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1、
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